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CAS No. 产品名称 英文名称 状态 应用
/ 氩氙氖混合气 Argon-xenon-neon mixture 商业化
/ 氧氩混合气 Argon oxygen mixture 商业化
/ 氪氖混合气 Krypton neon mixture 商业化
/ 氦氨混合气 Helium ammonia mixture 商业化
/ 氟氮混合气(F₂/N₂) Fluorine nitrogen mixture 商业化 氟氮混合气(氟气与氮气的混合气体)因其独特的化学性质(氟气的高反应性与氮气的惰性稀释作用)主要用于需要精确控制氟气活性或降低操作风险的工业领域。如包单体与微电子制造,核能工业,特种材料合成,表面处理与功能改性等领域。
685-63-2 六氟丁二烯(HFBD) Hexafluoro-1,3-butadiene 商业化 大规模集成电路制造中的干法刻蚀工艺气体。 合成树脂和含氟物质。
75-24-1 三甲基铝 Trimethylaluminum 可供应 用作半导体制造MOCVD、ALD工艺前驱体;有机合成烷基化催化剂;锂电池、钙钛矿电池氧化铝涂层制备前驱体。
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